Máy quang phổ phát xạ quang học Plasma cảm ứng (ICP-OES) CenVA PlasmaQuant ICP451 – CENVANCE
Máy quang phổ phát xạ quang học Plasma cảm ứng (ICP-OES) CenVA PlasmaQuant ICP451
Máy quang phổ phát xạ quang học Plasma cảm ứng (ICP-OES) CenVA PlasmaQuant ICP451 là thiết bị mạnh mẽ, được thiết kế để xác định chính xác và đồng thời lên đến 70 nguyên tố từ vết đến thành phần chính trong nhiều loại mẫu khác nhau.
Thiết bị được ứng dụng rộng rãi tại các viện nghiên cứu, trường đại học và doanh nghiệp công nghiệp trong các lĩnh vực như địa chất, luyện kim, hóa dầu, vật liệu đất hiếm, mạ điện, xi măng, kim loại màu, giám sát môi trường, an toàn thực phẩm và y học.
Với máy phát RF ổn định cao, hệ quang học tối ưu và thiết kế đưa mẫu chính xác, ICP451 mang lại hiệu suất phân tích vượt trội, bao gồm giới hạn phát hiện thấp, dải tuyến tính rộng và giảm nhiễu hóa học.
Với vận hành hiệu quả về chi phí và tự động hóa tiên tiến, PlasmaQuant ICP451 đảm bảo kết quả tin cậy và hiệu quả cho cả phân tích định kỳ và nghiên cứu cao cấp.
| Thông số | Giá trị |
|---|---|
| Loại mạch (Circuit Type) | Mạch tự dao động phản hồi cảm ứng, truyền tín hiệu qua cáp đồng trục, điều chỉnh cộng hưởng, điều khiển tự động vòng kín công suất |
| Tần số làm việc (Working Frequency) | 40 MHz ±0.05% |
| Độ ổn định tần số (Frequency Stability) | < 0.1% |
| Công suất đầu ra (Power Output) | 800 – 1200 W |
| Độ ổn định công suất (Power Output Stability) | < 0.3% |
| Rò điện từ (Electromagnetic Leakage) | Cường độ điện trường ở 30 cm: < 2 V/m |
| Hộp tần số cao (High Frequency Box) | Kích thích plasma torch ổn định bằng mạch tự dao động; truyền qua cáp đồng trục, cộng hưởng được điều chỉnh, vòng kín điều khiển tự động; hỗ trợ argon công nghiệp |
| Hộp điều chỉnh (Match Box) | Tụ gốm chân không điều chỉnh + tụ khí điều chỉnh để đạt trạng thái phù hợp tối ưu và công suất cao nhất |
| Bộ ghép hướng (Directional Coupler) | Điều khiển điện áp anot của van dao động; đảm bảo công suất ổn định qua bộ khuếch đại |
| Ống plasma (Torch) | Ba ống thạch anh đồng tâm, đường kính ngoài 20 mm, đường kính trong 25 mm, 3 vòng |
| Bình phun sương (Nebulizer) | Loại đồng trục, đường kính ngoài 6 mm |
| Buồng phun (Spray Chamber) | Thiết kế hai lần đi qua (double-pass), đường kính ngoài 34 mm |
| Lưu lượng khí plasma (Plasma Gas Flow) | 100 – 1000 L/h (1.6 – 16 L/min) |
| Lưu lượng khí phụ trợ (Auxiliary Gas Flow) | 10 – 100 L/h (0.16 – 1.66 L/min) |
| Lưu lượng khí mang mẫu (Carrier Gas Flow) | 10 – 100 L/h (0.16 – 1.66 L/min) |
| Áp suất khí mang mẫu (Carrier Gas Pressure) | 0 – 0.4 MPa |
| Nhiệt độ nước làm mát (Cooling Water Temperature) | 15 – 25°C |
| Lưu lượng nước làm mát (Cooling Water Flow Rate) | > 5 L/min |
| Áp suất nước làm mát (Cooling Water Pressure) | > 0.1 MPa |
| Độ dẫn điện nước làm mát (Cooling Water Resistivity) | > 1 MΩ |
| Hệ quang học (Optical Path) | Czerny-Turner |
| Tiêu cự (Focal Length) | 1000 mm |
| Lưới chuẩn (Grating – Standard) | Lưới holographic khắc dài, 3600 rãnh/mm, diện tích 80 × 110 mm |
| Lưới tùy chọn (Grating – Optional) | 2400 rãnh/mm, diện tích 80 × 110 mm |
| Độ tán sắc nghịch đảo (Reciprocal Linear Dispersion) | 0.26 nm |
| Độ phân giải (Resolution) | ≤ 0.008 nm |
| Dải bước sóng – lưới 3600 L/mm (Wavelength Range) | 195 – 500 nm |
| Dải bước sóng – lưới 2400 L/mm (Wavelength Range) | 195 – 800 nm |
| Bước tối thiểu (Stepper Motor Drive) | 0.0006 nm |
| Khe vào/ra (Slit Size) | 20 µm |
| Kích thước gương (Mirror Size) | 78 × 105 × 16 mm |
| Thấu kính (Lens) | Ø30 mm, tỷ lệ 1:1 |
| Hệ quang học có điều chỉnh nhiệt độ (Optical System Thermostat) | Duy trì 32°C ±1°C |
Xem thêm các sản phẩm của thương hiệu Cenvance tại đây.
Sản phẩm tương tự
Máy quang phổ
Máy quang phổ Raman cầm tay CenVA OptiRaman PRS450 – CENVANCE
Máy quang phổ
Máy quang phổ phát xạ quang học CenVA EmitX OES900 – CENVANCE
